shumee K&F Concept Nano-X 82 mm CPL filter

K&F Concept Nano-X 82 mm CPL filter

Polarizacijski filter K&F Concept CPL Nano-X Ultra-Low Reflection je visokokakovosten optični filter, zasnovan za profesionalce in napredne amaterske fotografe. Zahvaljujoč uporabi inovativnih premazov Nano-X filter učinkovito odpravlja odseve in svetlobne refleksije, povečuje kontrast slike in intenzivira barve, s čimer ohranja popolno naravnost prizora. Premer filtra je 82 mm, kar omogoča namestitev v širok nabor objektivov.

Optično steklo najvišjega razreda

Uporabljeno japonsko steklo AGC odlikuje izjemna prosojnost in optična ločljivost, ki je skladna s standardoma 4K in 8K. Filtrirna leča zagotavlja prepustnost svetlobe ≥99,8 % z odbojnostjo ≤0,1 %, kar se prevede v jasno sliko brez neželenega popačenja, razbarvanja ali izgube ostrine.

Napredna tehnologija premazov Nano-X

Filter je opremljen z 28 plastmi nano premazov MRC (Multi-Resistant Coating). Ti premazi imajo antirefleksne, hidrofobne in oleofobne lastnosti, ki učinkovito zmanjšujejo nastanek sledov, madežev in odsevov. Poleg tega ščitijo stekleno površino pred prahom, umazanijo in manjšimi mehanskimi poškodbami, kar znatno olajša čiščenje.

Funkcionalnost

Polarizacijski filter odpravlja polarizirano svetlobo, kar zmanjšuje neželene odboje od stekla, vode in kovinskih površin. Učinek njegovega delovanja je:

• izboljšanje nasičenosti barv (npr. zelena, modro nebo),
• izboljšanje kontrasta prizorov pri dnevni svetlobi,
• zmanjšanje atmosferske meglice,
• boljša reprodukcija podrobnosti pri posnetkih na prostem in v arhitekturi.

Mehanska konstrukcija

Filter ima nizek, tanek okvir, debel le 5,3 mm, kar odpravlja tveganje vinjetiranja tudi pri uporabi s širokokotnimi objektivi. Okvir je izdelan iz aluminijasto-magnezijeve zlitine, kar zagotavlja visoko vzdržljivost in odpornost proti poškodbam, hkrati pa ohranja nizko težo. Filter je opremljen z dvojnim navojem, ki omogoča pritrditev dodatne opreme.

Barvna nevtralnost in združljivost s samodejnim ostrenjem

Zahvaljujoč naprednim tehnologijam premazov filter ne vpliva negativno na ravnovesje beline ali celotno barvo slike. Prav tako ne moti delovanja sistemov samodejnega ostrenja, niti v težkih svetlobnih pogojih, kar omogoča popolno svobodo pri fotografiranju in snemanju filmov.

Ključne lastnosti:

• Izdelan iz najkakovostnejšega optičnega stekla, zahvaljujoč kateremu je prepustnost svetlobe veliko večja in znaša več kot 99,9 %
• Filter ima posebne nano-premazove, ki znatno zmanjšajo odboje in izboljšajo kakovost fotografij.
• Filter je prekrit tudi s premazi, ki so zelo odporni na praske in mehanske poškodbe. Premazi močno olajšajo čiščenje filtrov in preprečujejo prekomerno privlačenje prahu, cvetnega prahu in drugih vrst umazanije.
• Odlično razmerje med ceno in kakovostjo.

Uporaben bo tako v profesionalnem studiu kot pri dinamičnem delu na prostem, saj ponuja izjemne optične lastnosti in mehansko vzdržljivost.

Vsebina kompleta:

• 1× polarizacijski filter K&F Concept CPL Nano-X Ultra-Low Reflection (82 mm)
• 1× Zaščitni etui iz trde plastike

Združljivost

Filter ustreza vsem objektivom s premerom navoja 82 mm.